路启东沉吟了下，脸上露出几丝无奈，“现在光刻机被西方卡脖子了，国家又想自己搞光刻机了。但不瞒你说，现在我们掌握的光刻机技术相对于西方来说已经落后至少十年起步了，再加上他们专利壁垒，我们短期内很难绕过去。
不过即便如此，今年在政府的牵头下，京城，中海，和深市等城市还是相继有半导体公司成立了。
但想要拉近与西方的技术差距，我估计不投入数百亿的研发资金，很是困难。
当然，国家现在也拿不出多少经费来投到这个领域，只能走一步看一步了。”
刘临点了点头，“其实半导体这个领域最重要的就是技术，前期的所有投入，都是为了研发光刻机等各项技术的花销。
我有个想法，不知道院长有没有兴趣？”
“你说。”路启东点了点头。
“所有半导体相关的技术我都出，包括前期盈利前的投入资金我也出，我们合作成立一家半导体公司，你们华科院就只需出设备和技术人才，如何？”
刘临知道光有技术没有人才肯定是不行的，只有相关领域的专家及技术人才才能快速的吃透核心技术，只有将整套光刻机的核心技术都吃透了，才可能研制的出光刻机来。
所以他看上了华科院。
陆启东一怔，眼中闪过一抹讶然，他盯着刘临看了10来秒，才好奇的问道：“小刘，我想知道你说的光刻机技术是什么技术？”
光刻机这方面，现在华夏与西方的差距太大了，至少是10年的代差，如果刘临给出来的技术远远不如西方，那就没多大意义了。
“极紫外光源技术。”刘临道。
“极紫外光？”
路启东一怔，对于这个概念他自然是知道的。
早在80年代，东瀛的尼康公司在光刻机方面技术非常先进，在这方面米国都被压制了。而为了打压尼康在光刻机方面的绝对市场，米国在光刻机方面全面发力，然后提出了极紫外光光刻机技术。
但20年来，米国在极紫外光源上并没有太多技术上的突破，反而是尼康的干湿光刻机技术进步迅速，已经提出了从193纳米到153纳米的技术突破方向。而为了实现153纳米的光刻机技术，尼康更是投资了百亿米元加大研发力度。
所以，路启东有些疑惑，难道米国提出来的极紫光光刻机这个方向是对的？刘临真的将米国提出来的这个概念实现了？
“小刘，你真的有euv光刻机技术，光源多少纳米的？”路启东忍不住问道。
“5纳米光源。”
刘临点了点头，“应该说从193纳米到五纳米的技术分段都有。”
其实更先进的一纳米的技术也有，但未来10年也可能用不到这么先进的光刻机技术，而且以现在华科院的技术积累，太先进的光刻机他们也造不出来，至少短时间内造不出来。
如果双方合作成功，刘临会让他们先研制193纳米浸润式微影光刻机，193纳米的光刻机已经足够研发电脑芯片和3g手机芯片。
最主要的是193纳米浸润式微影光刻机工艺没有那么复杂，成本也没有那么高，能够很快对3g手机芯片和电脑芯片进行量产。
如果用euv光刻机研制3g手机芯片和电脑芯片，完全就是杀鸡用牛刀。
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